核心特性
低粘度高流动易成型:行业稀缺的30%碳纤增强低粘度PEEK配方,解决了普通高填充PEEK充模困难、无法成型复杂薄壁件的行业痛点,大幅降低量产注塑压力,提升精密复杂部件的量产良率

典型应用场景
工业高端装备领域:高负载无油润滑轴承、精密齿轮、泵阀密封结构件、压缩机滑片,长期高载荷往复运行无过度磨损,使用寿命远超普通金属部件
选型注意事项
无润滑助剂复配体系,极限静音超低摩擦场景需选用VESTAKEEP 450FC30等三相填充减摩牌号加工温度窗口窄,需使用专用PEEK注塑螺杆和高温料筒,避免普通工程塑料加工设备混料污染。
VESTAKEEP 1000 CF30依托30%碳纤维增强的超高刚性、低放气低离子析出、耐等离子体腐蚀的核心特性,适配半导体制造全流程中对高负载、耐高温、超洁净有严苛要求的核心零部件,具体落地场景如下:
晶圆传输与承载类部件
晶圆承载器/晶舟:23GPa的超高拉伸模量保障大尺寸晶圆承载时无蠕变变形,低放气特性完全避免真空环境下析出物污染晶圆表面,适配12英寸及以上大尺寸晶圆的高温传输场景。
晶圆传输机械手端拾器:轻量化高刚性特性让机械手运动惯量降低40%,大幅提升晶圆传输节拍,长期高速往复运动无磨损掉屑,不会划伤晶圆光刻胶表面。
晶圆定位卡盘:极低的热膨胀系数保障高温工艺下晶圆定位精度稳定,耐等离子体腐蚀性能优异,长期在蚀刻腔体内使用无性能衰减。

半导体刻蚀与沉积类部件
蚀刻机腔体内高刚性绝缘支撑结构件:耐受氟基、氧基强等离子体长期轰击,低离子析出特性完全避免金属离子污染晶圆电路,260℃长期连续使用无结构变形。
PVD/CVD设备真空腔体内支撑导轨:极低的真空析出率适配高真空工艺环境,高刚性保障导轨长期运行无翘曲,晶圆传输全程平稳无抖动。
等离子体电极绝缘环:优异的介电性能保障高压回路绝缘安全,耐高温腐蚀性能远超普通陶瓷部件,轻量化特性降低设备整体负载。
半导体测试与封装类部件
芯片老化测试插座基座:超高刚性保障探针长期高压力接触下基座无变形,低翘曲特性让数百根探针的对位精度始终稳定,大幅提升芯片测试良率。
封装模具高刚性耐磨衬套:高耐磨特性长期反复开合模无过度磨损,耐高温性能适配环氧塑封料的高温固化工况,衬套尺寸长期稳定无溢胶。
探针卡高刚性支撑背板:极低的热膨胀系数保障探针卡全温域下对位精度稳定,高刚性支撑数百根微米级探针无挠度变形,大幅提升芯片测试良率。
选型注意事项
无PTFE复配润滑体系,极限低摩擦滑动场景需选用VESTAKEEP 450FC30等三相填充减摩牌号
高填充特性下介电常数高于纯PEEK,高频射频场景需选用未增强纯树脂PEEK牌号
加工过程需全程在百级超净车间内完成,避免杂质混入影响半导体超净要求