Celazole (T Series) TU-60是PBI Performance Products推出的未增强型可熔融加工PBI/PEEK共混特种工程塑料,属于Celazole T系列的基础旗舰牌号,是 实现纯树脂形态量产的可注塑PBI-PEEK合金,核心定位是面向 高温、高绝缘、高洁净要求的无填充高性能场景,在保持PBI 热稳定性的同时,实现了普通纯PBI无法达到的常规注塑加工能力。
基础属性与核心定位
基材体系:未添加任何纤维或填料的纯聚苯并咪唑(PBI)与聚醚醚酮(PEEK)共混合金,属于非晶态与半晶态热塑性塑料的结合体系,仅以纯树脂颗粒形态供应,是整个Celazole T系列的基础母料牌号
核心定位:T系列的基础旗舰纯树脂牌号,相比纯PEEK材料,热稳定性、高温力学性能实现量级式提升;相比传统纯PBI材料,无需专用模压烧结工艺,可通过常规注塑设备直接成型,大幅降低高端PBI部件的加工门槛与制造成本
加工特性:适配常规可加工PEEK的注塑设备,仅需略高于普通PEEK的注塑温度、注塑压力和模具温度,即可稳定成型无填充的复杂精密部件,成型后部件表面光洁度极高,无任何纤维浮露
合规资质:完全符合RoHS、REACH环保要求,美国原厂生产, 半导体、高端电气、航空航天洁净场景均有成熟商用供货
核心性能参数
性能类别 关键指标 具体数值 测试标准
力学性能 拉伸强度 100MPa ASTM D-638
力学性能 拉伸模量 5000MPa ASTM D-638
力学性能 弯曲强度 155MPa ASTM D-790
力学性能 弯曲模量 4800MPa ASTM D-790
力学性能 压缩强度 206MPa ASTM D-695
热性能 空气环境初始热分解温度 499℃ TGA
热性能 长期连续使用温度 260℃ 原厂测试
电性能 体积电阻率 2×10¹⁶Ω·cm ASTM D-257
电性能 介电强度 17KV/mm ASTM D-149
电性能 1kHz介电常数 3.4 ASTM D-150
核心差异化优势
高洁净无析出特性:作为未填充纯树脂牌号,无任何纤维、填料添加,部件表面光洁度极高,完全杜绝填充型材料常见的填料析出、颗粒脱落问题,是整个T系列中洁净度 的牌号,完全适配半导体、医疗等对杂质析出零容忍的严苛场景
宽温域绝缘性能:在-196℃至260℃的超宽温度区间内,绝缘性能几乎无明显衰减,体积电阻率长期稳定在10¹⁶Ω·cm以上,介电损耗极低,是 高温环境下的 高绝缘特种材料
超高热稳定性能:空气环境下初始热分解温度达499℃,长期在260℃高温工况下无明显热降解,热稳定性远超普通纯PEEK材料, 高温环境下部件尺寸精度保持稳定
优异耐化学腐蚀性能:继承PBI材料的 耐化学特性,可耐受绝大多数有机溶剂、油类、稀释酸碱的长期侵蚀,在高温化学介质中长期浸泡后力学性能几乎无明显损失
高透光半透明特性:未填充的纯树脂结构让材料呈现半透明琥珀色外观,可透过特定波段的光线,适配部分需要透光性的特殊精密部件场景

典型应用场景
半导体制造高洁净核心部件:这是该材料最核心的商用场景,广泛用于半导体刻蚀设备的高洁净绝缘垫片、晶圆承载治具的无析出支撑部件、真空制程的高纯度密封环。材料无任何填料析出,不会污染晶圆,长期高温工况下几乎无小分子挥发,完全适配半导体制程的严苛洁净要求
高端电气 高温高绝缘部件:典型用于260℃以上高温环境下的高绝缘精密电气部件、航空机载高温电子设备的绝缘支撑基座。材料在 高温下仍能保持 绝缘性能,完全避免普通绝缘材料高温绝缘失效的问题
航空航天高真空洁净部件:用于航天器高真空舱内的高洁净绝缘结构件,材料在高真空环境下除水分外几乎无小分子挥发析出,不会污染航天器精密光学器件,长期在轨运行下性能稳定
医疗高精度无析出部件:用于非植入类高精度医疗器械的无析出结构件,可耐受反复高温高压灭菌,无任何杂质析出,完全适配医疗场景的洁净要求
相比同系列的填充型牌号,TU-60的核心优势是 的高洁净度与无析出特性,是 高温、高洁净、高绝缘场景下不可替代的高可靠性纯树脂特种材料选型。
Celazole TU-60作为未填充型可熔融加工PBI/PEEK共混纯树脂,依托 无析出、高耐等离子体腐蚀、宽温域绝缘稳定的核心优势,在半导体设备的高洁净制程场景中落地了大量成熟商用案例,核心具体应用集中在以下方向:
刻蚀与薄膜沉积腔体内高洁净部件
这是该材料在半导体领域最核心的商用场景,大量用于干法刻蚀腔、氧化刻蚀腔、溅射系统、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)腔体内的无析出绝缘垫片、定位销、支撑衬套。材料无任何纤维、填料添加,金属杂质析出量远低于普通填充型高性能塑料,完全杜绝填料颗粒脱落污染晶圆的问题,部件使用寿命是传统聚imide部件的2倍以上,大幅降低半导体设备的停机维护频率,提升晶圆良率。

半导体高温制程高绝缘精密部件
典型用于半导体高温扩散炉、快速热处理设备的高洁净绝缘支撑基座、晶圆承载治具的无析出定位块。材料在260℃以上的高温制程环境下,体积电阻率长期稳定在10¹⁶Ω·cm以上,绝缘性能几乎无衰减,同时热稳定性极强,长期高温工况下几乎无小分子挥发析出,完全适配半导体制程的严苛洁净要求。
半导体真空制程高纯度密封部件
广泛用于半导体高真空制程设备的备用密封环、真空腔门的高洁净辅助密封件。材料未填充的纯树脂结构让部件表面光洁度极高,无任何孔隙藏污纳垢,在高真空环境下除水分外几乎无小分子挥发,不会污染真空腔内的精密光学部件和晶圆,长期高温真空工况下密封性能保持稳定。
半导体精密传输系统无析出部件
大量应用于半导体晶圆传输机械手的高洁净绝缘连接座、精密传动机构的无析出绝缘衬套。材料可通过常规注塑工艺直接成型复杂精密的连接结构,无需后续大量机加工,部件表面无任何浮露杂质,长期往复运动下几乎无颗粒磨损脱落,完全避免普通填充型材料磨损颗粒污染晶圆的问题。
除此之外,该材料在半导体离子注入设备的高洁净绝缘部件、LCD面板制造的高温制程支撑部件等场景中也有成熟商用,是半导体制程中对杂质析出零容忍的高洁净场景下不可替代的高可靠性特种材料选型。
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